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注意事项根据我公司长时间对抛光工艺的摸索与实践，三酸抛光工艺，光亮剂在抛光液中几乎消耗相当细微，因此时视具体的情况配比补加光亮剂，新配抛光溶液抛光时间要短；温度偏高时，抛光时间要短些，若抛光2min以上仍不光亮时，可观察抛光时液面泡沫的多少，酌情添加光亮剂，三酸抛光，泡沫少时可按适当比例添加部份光亮剂，泡沫多时只要按比例加入磷酸和***即可。生产一段时间后的溶液呈乳白色且粘度大，所以化学抛光后的产品需要反复清洗，否则酸液残留于工件表面将会导致表面产生白霜点。



多晶金刚石抛光液多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。氧化硅抛光液氧化硅抛光液（CMP抛光液）是以高纯硅粉为原料，三酸抛光价格，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。

铝化学抛光技术?

一、对铝制品表面进行机械抛光：bbs.cnal.com5?z4?n6?T#?]:?N8?p，?F3?^

??1、机械抛光工序为：粗磨、细磨、抛光、抛亮、喷砂、刷光或滚光等，三酸抛光剂，根据制表面的粗糙程度来适当采取不同的工序。???二、化学除油除膜：6?z，?R1?d3?w;?%?R1?w

??化学除油除膜过程是借着化学反应和物理化学作用，除去制件表面的油污和自然氧化膜。化学除油除膜一般采用酸性除油除膜剂AC。:?b#?^#?﹨4??;?b7?s2???使用条件：?

??1、浓度：2-7%6?d2?X)?r*?M??G8?M

??2、工艺条件：?温度：20-30℃?时间：2-10min???酸洗液的配方：中国铝业论坛$?V:?n'?e'?^2?h8?L8?N3?c

???浓硝液200~270ML/L中国铝业论坛;?j'?{amp;?[%?X-?b5?d

???温度：室温时间：1-3min?

??除去含合金制件表面氧化膜和硅浮灰的酸洗液配方：9?R9?F9?G9?r8?~9?P'?i

???浓3体积；浓1体积。???温度：室温?时间：5-15min:?r7?T0?_-?a ?m1?H0?u

??铝及铝合金制件经化学酸洗后，必须立即用流动温水和冷水清洗，以除去残酸，然后浸入水中，以备化学抛光。

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