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发布时间:2020-10-17 02:26:04
氧化抛光液氧化抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化研磨液,抛光剂哪家好,该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。适用于高精密光学仪器,光学镜头,抛光剂价格,微晶玻璃基板,晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。氧化铝和碳化硅抛光液是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液,主要成分是微米或亚微米级的磨料。主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。
多晶金刚石抛光液多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分,配合高分散性配方,可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。氧化硅抛光液氧化硅抛光液(CMP抛光液)是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。
注意事项根据我公司长时间对抛光工艺的摸索与实践,光亮剂在抛光液中几乎消耗相当细微,因此时视具体的情况配比补加光亮剂,新配抛光溶液抛光时间要短;温度偏高时,淮安抛光剂,抛光时间要短些,若抛光2min以上仍不光亮时,可观察抛光时液面泡沫的多少,酌情添加光亮剂,泡沫少时可按适当比例添加部份光亮剂,泡沫多时只要按比例加入磷酸和***即可。生产一段时间后的溶液呈乳白色且粘度大,所以化学抛光后的产品需要反复清洗,否则酸液残留于工件表面将会导致表面产生白霜点。
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